第31回 分析電子顕微鏡討論会のお知らせ


【注】下記の記載事項は 2015年開催時のものです。2016年の開催につきましては、 http://eels.kuicr.kyoto-u.ac.jp/bunseki2016/ にて案内させていただきます。


主催
公益社団法人 日本顕微鏡学会 分析電子顕微鏡分科会
協賛
日本物理学会(協賛依頼中)、応用物理学会(協賛依頼中)、日本表面科学会、日本金属学会、日本鉄鋼協会、日本分析化学会、日本セラミックス協会、日本材料学会、触媒学会、軽金属学会、日本熱処理技術協会
日時
2015年9月1日(火)、2日(水) (JASIS2015(主催:日本分析機器工業会)と共催)
会場
幕張メッセ国際会議場2階 国際会議室 (〒261-0023 千葉市美浜区中瀬 2-1)
最寄駅 JR海浜幕張駅 徒歩10分 / JR,京成 幕張本郷駅よりバス15分 / 羽田、成田空港よりバス 40分
9月2日は幕張本郷駅ほかよりJASIS シャトルバスも利用いただける見込みです。⇒JASIS2015 アクセスガイド
海浜幕張駅からは徒歩が便利です。
参加費
日本顕微鏡学会会員(個人会員)及び協賛学会員(個人会員) 6,000円(予稿集含む)
非会員 12,000円(予稿集及び日本顕微鏡学会入会費と本年度分の年会費を含みます)
学生 無料(予稿集が必要な方は、会場にて1,500円で別売いたします)
内容
分析電子顕微鏡に関わるチュートリアル、研究トピックス、並びに試料作製法について詳細な講演がなされます。チュートリアルでは、分析電顕の基軸となるEDS、EELSに加えて、年々関心が高まるWDSと渦状(らせん状)電子ビームが解説されます。トピックスでは、「生体・生命現象の観察」、「物理化学反応の観察」という電子顕微鏡学の二つの重要課題に対して、分析電顕とその周辺技術という観点から最新の研究成果が紹介・議論されます。試料作製のセッションは、最新技術を含めた複数の手法を紹介し、その特徴や有用性を俯瞰する構成としています。一般講演も募集していますので、奮ってご参加ください。

参加申込方法

事前登録は終了しました。当日、受付(2階・国際会議室前)にて参加登録をお願い致します。

当日登録用 参加登録票です。記入して受付までお持ち下さい。⇒ 参加登録票 (MS-Word 形式)
なお、振り込みによる参加費支払いは締切らせていただきます。当日現金払いにご協力下さい。

本討論会は JASIS コンファレンス として実施されます。本討論会参加登録のほか JASIS2015 入場登録が必要です。当日朝はJASIS受付の混雑が予想されますので、JASIS 事前入場登録をお願いいたします。⇒ JASIS 2015

一般講演申込方法

一般講演は定員に達しましたので、申込を締め切らせていただきます。

締切

事前参加登録は締切ました。当日、会場前にて参加登録を受付いたします。

連絡先(代表世話人)

連絡先:
  〒819-0395 福岡市西区元岡744
  九州大学大学院工学研究院 エネルギー量子工学部門
  村上恭和(分析電子顕微鏡討論会事務局)
  Fax: 092-802-3497
  E-mail: bunseki31@eels.kuicr.kyoto-u.ac.jp

プログラム 2015年7月21日版
プログラム変更の際にはこのページにて告知いたします。
9月1日(火) 10:00-16:50
チュートリアル (各40分) 座長: 近藤 行人(日本電子)
10:00-EDSの基礎金子 賢治九州大学
10:40-EELSの基礎治田 充貴京都大学
11:20-WDSの基礎高橋 秀之日本電子
昼食 12:00-13:20
13:20-電子らせん波を学ぶ齋藤 晃名古屋大学
休憩 14:00-14:10
トピックス1 「分析電顕とその周辺技術: I 生体・生命現象の観測」 (各30分) 座長: 葦原 雅道(日本エフイー・アイ)
14:10-クライオ電子顕微鏡による細胞内三次元構造の観察手法吉川 雅英東京大学
14:40-細胞の構造・動態・機能を可視化するための遺伝子ツール永井 健治大阪大学
休憩 15:10-15:20
15:20-直接電子検出装置が極低温電子顕微鏡法にもたらす技術革新重松 秀樹理化学研究所
15:50-電子直接検出カメラを組み合わせたゼルニケ位相差電子顕微鏡法村田 和義生理学研究所
16:20-分析電顕のための生物試料作製法亀谷 清和信州大学
9月2日(水) 10:00-16:55
トピックス2 「分析電顕とその周辺技術: II 物理化学反応の観測」 (各30分) 座長: 山田 克美(JFEスチール)
10:00-環境セルを用いた電気化学反応のTEM観察大島 義文北陸先端大学
10:30-気体中のナノ材料の環境TEM観察吉田 秀人大阪大学
11:00-ガス雰囲気下における電極触媒のその場SEM/STEM観察松本 弘昭日立ハイテクノロジーズ
11:30-Development and application of in situ TEM techniques for nanoscale mechanics and optoelectronicsD. Golberg物質・材料研究機構
昼食 / JASIS 展示見学時間 12:00-13:30
試料作製技術の現状と展望 (各30分) 座長: 坂口 紀史(北海道大学)
13:30-金属材料における電解研磨試料作成山田 克美JFEスチール
14:00-実践的イオンミリング技法村田 直哉日本電子
14:30-FIB装置によるTEM試料作製の最新動向鈴木 秀和日立ハイテクサイエンス
15:00-光吸収励起による無損傷試料薄片化市野瀬 英喜
休憩 15:30-15:40
一般講演 (各15分) 座長: 矢口 紀恵(日立ハイテクノロジーズ)
15:40-EM像観察における高速ドリフト補正イメージングの有効性伊野家 浩司Gatan Inc.
15:55-New trends in STEM and DPC STEM imaging
Ivan Lazić1, Eric Bosch1, Sorin Lazar1, Alex Bright2
1 FEI Co. The Netherlands,
2 FEI Co. Japan
16:10-大面積SDDを用いたシリコン中ドーパント濃度の検出限界
福永 啓一、遠藤 徳明、鈴木 実、朝山 匡一郎、近藤 行人
日本電子
16:25-電子線ホログラフィーによる磁気渦の3次元観察高橋 由夫日立製作所
16:40-単層グラフェンSTEM-ADF像の定量解析
山下 俊介1,2、越谷 翔悟1、石塚 和夫1,3、木本 浩司1,2
1物質・材料研究機構、2九州大学、3HREM Research Inc.

* プログラムの内容(発表順等)は掲載時点の予定であり、今後調整させて頂く可能性もございます。


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